Пластины AGFA MATRIX

Аналоговые офсетные пластины AGFA MATRIX были разработаны в 2004 году итальянской компанией LASTRA с учетом постоянной потребности рынка высококачественной офсетной печати в формных пластинах с малым временем экспонирования, высокой разрешающей способностью, большим диапозоном рабочих экспозиций и с быстрым выходом на тираж.

Пластины AGFA MATRIX предназначены для высококачественной листовой и рулонной коммерческой печати.

Основные достоинства Matrix

сокращенное время экспонирования

высокое разрешение копировального слоя, высокий контраст

быстрое установление баланса «краска/вода», и его стабильность на протяжении печати печать с меньшей подачей увлажняющего раствора

«твердая» точка растровых элементов

обратимый светочувствительный слой*

* Некоторые виды полиграфических работ, как, например, печать каталогов товаров, могут быть выполнены быстрее и с меньшими потерями на стадии допечатной подготовки в том случае, если экспонирование на одну и ту же пластину ведется как с позитивных, так и негативных пленок. Так, постоянная (неизменяемая) часть каталога в виде текстового и иллюстративного материала может быть выведена и храниться в виде позитивов, а цены на товары, которые периодически подлежат обновлению, при каждом переиздании каталога выводятся в негативном изображении.

 

Тип пластин Аналоговые позитивные (негативные) офсетные пластины
Облать применения коммерческая листовая и ролевая офсетная печать
Толщина 0.15, 0.30 мм
Основа Аl, поверхность с электролитическим зернением и анодированием
Цвет копировального слоя
до экспонирования темно-зеленый
после экспонирования синий
Безопасное освещение дневное
Источник экспонирования Металлогалогеновая лампа УФ (350-380 нм)
Разрешающая способность 2-98% при 175 lpi (10-12 мкм)
Тиражестойкость
без обжига 200 тыс. оттисков
после обжига 1 млн. оттисков
Обрабатывающие растворы Проявитель LSP17, гуммирующий состав Plategum LGO 1030, либо аналоги
Гарантийный срок хранения 24 месяца с даты изготовления, при нормальных температурных условиях хранения в их первоначальной упаковке

 

Технологические инструкции по обработке пластин MATRIX

Экспонирование:

Пластины экспонируются в контактно-копировальных рамах с металлогалогеновыми лампами с длиной волны 360 — 400 нм. При стандартных условиях экспонирования (мощность лампы 5000 Вт, расстояние от лампы 110 см) время экспонирования составляет 40-60 секунд.

Для выбора правильного времени экспонирования рекомендуется использовать контрольные шкалы UGRA 1982, STOUFFER и подобные;

Время экспонирования считается подобранным правильно, если при применении шкалы UGRA 1982:

• поля серой шкалы с оптической плотностью не более 0,45 (три первых поля) полностью засвечены

• поля серой шкалы с оптической плотностью не менее 1,20 (поля с 8 по 13) не засвечены

• поля с оптическими плотностями от 0,60 до 0,90 при экспонировании создают нарастающую по плотности вуаль (поля с 4 по 7)

• при копировании на пластину растровой шкалы воспроизводится структура точек в диапазоне не менее 2-98%

• при копировании на пластину шкалы микролиний воспроизводятся микролинии толщиной 12 мкм — позитивные и 10 мкм — негативные

Температура проявления Время проявления
Ручное проявление 20 — 23°С 20 — 30 секунд
Машинное проявление 23 — 30°С 70 — 120 см/мин

Гуммирование:

Используется для защиты пробельных элементов от контакта с воздухом и для предотвращения их загрязнения. Производится непосредственно после этапа проявления и промывки пластин. Гуммирование может производиться как вручную, так и автоматически в специальной секции проявочного процессора. Для автоматического гуммирования используется синтетический декстрин LGO-1030, либо его аналог.

 

Корректура:

Для удаления остатков слоя с пластины после ее экспонирования и проявления используются корректирующий гель LKP-250, корректурные карандаши F-LPF, G-LPG, и LKP-35, либо их аналоги. Корректирующий гель наносится кисточкой или тампоном на участки пластины, подлежащие удалению. Через несколько секунд средство следует удалить с поверхности пластины. Затем пластины промываются водой и покрываются гуммирующим составом.

 

Использование пластины в качестве негативной формы (инверсия):

• Экспонировать пластину с негативной пленкой в течение приблизительно 50 секунд

• Поместить пластину в печь для обжига на 150 — 180 секунд при температуре 135 — 140 C° обеспечив равномерность и постоянство температуры в печи. Снижение температуры будет повышать время обжига и наоборот

• Вновь экспонировать пластину с позитивной пленкой в течение приблизительно 50 секунд

• Проявить пластину (режимы проявки, как для позитивной пластины)

 

 

 

НОВОЕ ПОСТУПЛЕНИЕ